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申请/专利权人：厦门闪蝶科技有限公司
申请日：2023-10-09
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN221199986U
主分类号：G02B5/22
分类号：G02B5/22;G02B5/26;G02B5/28
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.21#授权
摘要：本实用新型公开了一种实现紫外光物理阻隔的结构色薄膜，所述薄膜的结构为：aHbL^ScHbLaH^S或者bLaH^ScLaHbL^S，H代表为高折射率介质膜层，L代表低折射率介质膜层，a、b和c分别代表以纳米为单位的物理厚度值，S代表分布在对称中心两侧的重复堆叠膜层数，S的范围为1～8；该结构是以高折射率介质膜层cH或者低折射率介质膜层cL为中心的对称结构；所述高折射率介质膜层的厚度范围：20nm～190nm；所述低折射率介质膜层的厚度范围：30nm～160nm。本实用新型还公开了一种实现紫外光物理阻隔的结构色薄膜系统，成本低、不会危害皮肤健康。
主权项：1.一种实现紫外光物理阻隔的结构色薄膜，其特征在于，所述薄膜的结构为：aHbL^ScHbLaH^S或者bLaH^ScLaHbL^S，H代表为高折射率介质膜层，L代表低折射率介质膜层，a、b和c分别代表以纳米为单位的物理厚度值，S代表分布在对称中心两侧的重复堆叠膜层数，S的范围为1～8；该结构是以高折射率介质膜层cH或者低折射率介质膜层cL为中心的对称结构；aHbL^ScH或者bLaH^ScL中每一个膜层对应的物理厚度值a、b和c是不同的；相互对称膜层的物理厚度值相同；根据光的干涉效应和吸收效应原理为每一个膜层选择合适的物理厚度值，所述高折射率介质膜层的厚度范围：20nm～190nm；所述低折射率介质膜层的厚度范围：30nm～160nm；所述高折射率介质膜层选用在中波UVB的波段具有本征吸收的材料，采用TiO2、Nb2O5、Ta2O5、ZrO2、ZnO、Si3N4、SiO、NiO、ITO、Fe2O3、Fe3O4、Nd2O3、CuO、Cu2O、HfO2、Y2O3、ATO、WO3、SnO2、SiOxNy和TiO中的一种。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 厦门闪蝶科技有限公司 一种实现紫外光物理阻隔的结构色薄膜及系统
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