申请/专利权人:苏州盛拓半导体科技有限公司
申请日:2023-11-09
公开(公告)日:2024-06-21
公开(公告)号:CN221200231U
主分类号:G03F7/20
分类号:G03F7/20;G03F9/00
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.21#授权
摘要:本实用新型公开了一种兼容型找平机构,包括用于在掩模板与晶圆之间进行找平的球体形式的间隔物,包括环形阵列布置于所述晶圆外的适配单元,所有的所述间隔物共同围绕成一覆盖了所述晶圆的圆形;所述适配单元具有用于驱动所述间隔物进行进给调节的线性自由度;本申请采用环形阵列式多方位、多维度的自由度进给输出的布局模式,实现了对晶圆上下两个方向的线性自由度的精确控制。这确保了平整度的高度精确性,有助于实现高质量的图案复制。而通过环形阵列的位置传感器,能够适配不同规格和大小的晶圆。这使系统具有自适应性,可以根据晶圆的尺寸动态调整找平操作,从而提高了生产的灵活性和效率。
主权项:1.一种兼容型找平机构,包括用于在掩模板与晶圆(3)之间进行找平的间隔物(404),其特征在于:包括环形阵列布置于所述晶圆(3)外的适配单元(4),所有的所述间隔物(404)共同围绕成一覆盖了所述晶圆(3)的圆形;所述适配单元(4)具有用于驱动所述间隔物(404)进行进给调节的线性自由度,当所述线性自由度执行时,所述圆形作变径调节。
全文数据:
权利要求:
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