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粘合片 

申请/专利权人:日东电工株式会社

申请日:2023-12-22

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118240494A

主分类号:C09J7/30

分类号:C09J7/30;C09J7/25;C09J133/08

优先权:["20221222 JP 2022-205740"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:提供能对被粘物良好地密合、并且自被粘物的去除性好的粘合片。提供一种粘合片,其具备:基材、配置于基材的一侧的第1粘合层、和配置于基材的与第1粘合层相反的一侧的第2粘合层。第2粘合层的至少表面由含有热膨胀性微球的粘合剂构成。第1粘合层包含A层和与A层邻接的B层。A层的厚度为2μm以上,B层的厚度为5μm以上。B层中存在的羧基的量比A层中存在的羧基的量多。第1粘合层满足A1B1及A1≤0.050。A1、B1分别为测定位置A、B的FT‑IR光谱中环氧系树脂处理前后的源自环氧系树脂的峰强度上升量。

主权项:1.一种粘合片,其具备:基材、配置于该基材的一侧的第1粘合层、和配置于该基材的与该第1粘合层相反的一侧的第2粘合层,所述第2粘合层的至少表面由含有热膨胀性微球的粘合剂构成,所述第1粘合层包含:构成该第1粘合层的表面的A层、和配置在所述A层与所述基材之间且与该A层邻接的B层,所述A层的厚度为2μm以上,所述B层的厚度为5μm以上,所述B层中存在的羧基的量比所述A层中存在的羧基的量多,所述第1粘合层满足下述条件1及2:1A1B1;及2A1≤0.050所述A1为:在自所述第1粘合层的表面起位于深度1μm的测定位置A的FT-IR光谱中,以1725cm-1~1750cm-1的范围中存在的峰强度为基准求出的、对该第1粘合层表面进行环氧系树脂处理前后的源自该环氧系树脂的峰强度的上升量A1,所述B1为:在自所述第1粘合层的所述基材侧起位于深度5μm的测定位置B的FT-IR光谱中,以1725cm-1~1750cm-1的范围中存在的峰强度为基准求出的、对该第1粘合层表面进行环氧系树脂处理前后的源自该环氧系树脂的峰强度的上升量B1,作为源自所述环氧系树脂的峰强度,使用1505cm-1~1515cm-1的范围中存在的峰强度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 日东电工株式会社 粘合片

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