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一种新型显示喷印制造中薄膜形貌的白光干涉检测方法 

申请/专利权人:华中科技大学

申请日:2024-03-21

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118243010A

主分类号:G01B11/24

分类号:G01B11/24;G06T7/00;G06T5/90

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明属于新型显示喷印制造领域,具体涉及一种新型显示喷印制造中薄膜形貌的白光干涉检测方法,包括:获取待测区域的系列白光扫描干涉图像;采用顶角法自适应判定待测区域为薄膜区域或边缘区域;对薄膜区域,采用各像素点的系列光强对比度及系列图像采集高度构建离散点进行包络提取及高斯拟合,确定对应像素点的拟合信号中双峰处的图像采集高度,计算对应像素点处的绝对膜厚;对边缘区域基于包络提取及高斯拟合自适应划分膜区和基板区,采用膜区内各像素点的拟合信号中较高峰值处的图像采集高度以及基板上某像素点的拟合信号中单峰处的图像采集高度,计算膜区对应像素点的相对膜厚。本发明方法能自适应地实现不同薄膜区域的精确形貌重构。

主权项:1.一种新型显示喷印制造中薄膜形貌的白光干涉检测方法,其特征在于,包括:获取喷印薄膜待检测区域的系列白光扫描干涉图像;提取图像任三个顶角像素点在系列图像中的系列光强对比度,对每个顶角的系列光强对比度进行包络提取及高斯拟合,当三个顶角的拟合信号均为双峰信号,则判定待检测区域为薄膜区域,否则判定为薄膜边缘区域;当为薄膜区域,则采用区域内各像素点的系列光强对比度及对应的系列图像采集高度构建离散点,以进行包络提取及高斯拟合,并确定对应像素点的拟合信号中双峰处的图像采集高度,以计算对应像素点处的膜厚;当为薄膜边缘区域,基于包络提取及高斯拟合对该区域像素点划分膜区和基板区,并采用膜区内各像素点的系列光强对比度及对应的系列图像采集高度构建离散点以进行包络提取及高斯拟合,确定对应像素点的拟合信号中较高峰值处的图像采集高度hBu,采用基板区内某像素点的系列光强对比度及对应的系列图像采集高度构建离散点以进行包络提取及高斯拟合,确定该像素点的拟合信号中单峰处的图像采集高度hA,计算每个hBu和hA的差值,作为膜区对应像素点的膜厚,完成检测。

全文数据:

权利要求:

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