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申请/专利权人：魅杰光电科技(上海)有限公司
申请日：2023-12-08
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN117685899B
主分类号：G01B11/24
分类号：G01B11/24;G06V10/75
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2024.03.29#实质审查的生效;2024.03.12#公开
摘要：本发明提供一种图形结构形貌参数的测量方法，包括以下步骤：获取若干具有不同形貌的样本图形结构的形貌参数、以及各所述样本图形结构在多个目标波长的入射光束照射下对应的总反射率；建立各所述样本图形结构的形貌参数与所述目标波长、所述总反射率之间的映射关系，并将各所述映射关系存入数据库中；测量待测图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率；将所述待测图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率与所述数据库中的所述映射关系进行匹配，得到所述待测图形结构的形貌参数。本发明图形结构形貌参数的测量方法操作简单且成本较低。
主权项：1.一种图形结构形貌参数的测量方法，其特征在于，包括：获取若干具有不同形貌的样本图形结构的形貌参数、以及各所述样本图形结构在多个目标波长的入射光束照射下对应的总反射率；建立各所述样本图形结构的形貌参数与所述目标波长、所述总反射率之间的映射关系，并将各所述映射关系存入数据库中；测量待测图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率；将所述待测图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率与所述数据库中的所述映射关系进行匹配，得到所述待测图形结构的形貌参数；其中，获取各所述样本图形结构在多个目标波长的入射光束照射下对应的总反射率，包括：通过模拟软件，模拟生成各所述样本图形结构，并模拟得到各所述样本图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率；通过实测，获取至少部分样本图形结构的形貌参数、以及相应所述样本图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率；基于实测的相应所述样本图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率，对模拟得到的相应所述样本图形结构在各所述目标波长的入射光束照射下对应的总反射率进行修正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 魅杰光电科技(上海)有限公司 一种图形结构形貌参数的测量方法
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