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一种卷曲受体7的小分子抑制剂及其制备方法和应用 

申请/专利权人:上海科技大学

申请日:2022-12-26

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN115850202B

主分类号:C07D277/46

分类号:C07D277/46;C07D277/82;C07D261/14;C07D231/40;C07D235/30;C07D241/20;C07C323/52;C07C319/14;C07C319/20;C07D417/12;A61K31/426;A61K31/428;A61K31/42;A61K31/415;A61K31/4184;A61K31/4965;A61K31/167;A61K31/427;A61P35/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2023.04.14#实质审查的生效;2023.03.28#公开

摘要:本发明公开了一种卷曲受体7的小分子抑制剂及其制备方法和应用。具体公开了一种式I所示化合物或其药学上可接受的盐。本发明所提供的化合物或其药学上可接受的盐的抑制活性好,拥有良好的药用前景。

主权项:1.一种药物组合物,其包括式I所示化合物或其药学上可接受的盐及药用辅料; 其中,A为萘基、环己烷基、金刚烷基、被一个或多个R1取代的5~10元杂芳基或被一个或多个R2取代的苯基;各个R1和R2独立地为氢、C1~C6烷基、6~14元芳基、3~10元环烷基、C1~C6烷氧基、卤素或被一个或多个R1-1取代的苯基;各个R1-1独立地为卤素;A中,所述被一个或多个R1取代的5~10元杂芳基中的5~10元杂芳基为噻唑基、苯并[d]噻唑基、异恶唑基、1H吡唑基、1H-苯并[d]咪唑基或吡嗪基;L1为-CH2n-;n为1;X为O、S或NR4;L3为R4为H;B为6~14元芳基或被一个或多个Rb-2取代的6~14元芳基;各个Rb-2独立地为C1~C6烷基、卤素、C1~C6烷氧基、被一个或多个Rb-1-1取代的C1~C6烷基或被一个或多个Rb-1-3取代的C1~C6烷氧基;各个Rb-1-1和Rb-1-3独立地为卤素。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海科技大学 一种卷曲受体7的小分子抑制剂及其制备方法和应用

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