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高致密度EB-PVD金属涂层及其制备方法 

申请/专利权人:成都晨发泰达航空科技股份有限公司

申请日:2024-03-26

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN117947386B

主分类号:C23C14/16

分类号:C23C14/16;C23C14/30;C23C14/58

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要:本发明公开了一种高致密度EB‑PVD金属涂层及其制备方法,涉及EB‑PVD(电子束物理气相沉积)涂层的技术领域。所述制备方法包括:将经过EB‑PVD技术添加的金属涂层进行真空热处理,将得到的热处理后的金属涂层加入填充有部分填料的冷等静压模具中,继续填充填料至其将金属涂层充分包裹并压实后进行冷等静压处理;将处理后金属涂层取出,去除表面残留的填料颗粒,即得到高致密度EB‑PVD金属涂层。本发明可有效消减EB‑PVD金属涂层在零件表面的缝隙和开裂现象,提高涂层组织致密度,且显著降低制备成本。

主权项:1.高致密度EB-PVD金属涂层的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:(1)将经过EB-PVD技术沉积于零件表面的金属涂层进行真空热处理,得到热处理后的金属涂层;(2)向冷等静压模具中填充填料,其后将所述热处理后的金属涂层放入填充有填料的冷等静压模具中,并继续填充填料至填料在冷等静压模具内将所述热处理后的金属涂层充分包裹并压实;(3)将完成步骤(2)的所述冷等静压模具密封后放入冷等静压设备的加压室中进行冷等静压处理,冷等静压处理的压力为50-250MPa,保压时间为1-5min;(4)将完成所述冷等静压处理的金属涂层从所述冷等静压模具中取出,去除其表面残留的填料颗粒,即得到高致密度EB-PVD金属涂层;其中,所述金属涂层选自MCrAlY涂层中的一种或多种,其中,M选自Ni和或Co;所述填料选自粒度≥600目的白刚玉、聚乙烯颗粒、氯化钠或其它氯盐颗粒中的一种或多种。

全文数据:

权利要求:

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