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一种立体异构体的制备方法及中间体 

申请/专利权人:格格巫(珠海)生物科技有限公司

申请日:2022-12-28

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118255769A

主分类号:C07D487/04

分类号:C07D487/04;C07C269/06;C07C271/22;C07C271/16;C07C271/14;C07C303/28;C07C309/66;C07C313/06;C07C381/10

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明公开了一种立体异构体的制备方法及中间体,以及中间体的制备方法及其用途,特别是在制备JAK抑制剂活性化合物中的用途。在该制备方法中,特别是,先制备亚砜亚胺结构取代的环己胺立体异构体,然后与取代的吡咯并嘧啶反应,得到特定立体结构的取代杂环化合物,其可直接作为或进一步修饰得到更多的活性化合物,该方法收率较高,反应条件温和,成本较低,而且目标产物的质量和纯度较高,适合工业化生产。

主权项:1.一种立体异构体的制备方法,其包括如下步骤:1将化合物RM01与溶剂1、催化剂1、碱、化合物RM02混合,反应,得到化合物RM03; 2将化合物RM03进行氨基脱保护,得到化合物RM04; 3将化合物RM04与溶剂3、碱、化合物RM05混合,反应,得到化合物RM06; 其中,A选自C或N;当A为N时,R5不存在,当A为C时,R5选自:H、卤素、羟基、氰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的卤代烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的羟烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环烷基、取代或未取代的氨基、取代或未取代的磺酸基、取代或未取代的磺酰基;R1'为氨基保护基团;R2选自:卤素、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、C1-10烷基、C3-10环烷基、-OC0-10烷基、-NC0-10烷基C0-10烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、C6-18芳香基、-N杂环芳香基、-S杂环芳香基或-O杂环芳香基、环烷基烷基、芳烷基、杂环基烷基,所述碳或氮原子上的H可被以下基团取代:氘代、羟基、卤素、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、C1-6直链烷基、-NC0-10烷基C0-10烷基、-OC0-10烷基、C3-10环烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、C6-18芳香基、-N杂环芳香基、-O杂环芳香基或-S杂环芳香基;其中C6-18芳香基或杂环芳香基上的H可被以下一个或多个基团任意取代:卤素、C1-4直链烷基、-NC0-10烷基SO2C0-10烷基、-CONC0-10烷基C0-10烷基、-NC0-10烷基COC0-10烷基、-NC0-10烷基COOC0-10烷基、-OCONC0-10烷基C0-10烷基、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、-NC0-10烷基C0-10烷基、-OC0-10烷基、-N杂环芳香基、-O杂环芳香基或-S杂环芳香基,或所述C6-18芳香基、杂环芳香基上相邻的碳原子形成C3-8环烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、或-N杂环芳香基、-O杂环芳香基、-S杂环芳香基;R3为氨基保护基团;R4选自:H、C1-10直链支链烷基、C1-10直链支链烯基、C1-10直链支链炔基、C6-18芳香基、C6-18杂环芳香基、C3-10环烷基、-OC0-10烷基、-O杂环烷基,所述碳原子上的H可被以下基团取代:氘代、羟基、卤素、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、C1-10直链支链烷基、-NC0-10烷基C0-10烷基、-OC0-10烷基、C3-10环烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、C6-18芳香基、-N杂环芳香基、-O杂环芳香基或-S杂环芳香基;其中所述基团的烷基部分可被以下一个或多个基团任意取代:-SO2、-SO2NC0-10烷基C0-10烷基、-NC0-10烷基SO2C0-10烷基、-CONC0-10烷基C0-10烷基、-NC0-10烷基COC0-10烷基、-NC0-10烷基COOC0-10烷基、-OCONC0-10烷基C0-10烷基、卤素、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、-NC0-10烷基C0-10烷基、-OC0-10烷基、C6-18芳香基、-N杂环芳香基、-O杂环芳香基或-S杂环芳香基;R6是环烷基上一个或多个碳原子上的H的取代基团,各R6独立地选自:C1-6烷基、C3-6环烷基,s为0-8之间的整数如0、1、2、3、4、5;p为0-4间的任意整数,q为0-4间的任意整数,且p和q不同时为0;R7和R8独立地选自:H、卤素、羟基、氰基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的卤代烷基、取代或未取代烷氧基、取代或未取代的羟烷基、取代或未取代环烷基、取代或未取代的非杂环芳香基、取代或未取代的杂环芳香基、取代或未取代的杂环烷基、取代或未取代氨基、取代或未取代的磺酸基、取代或未取代磺酰基;R9为氨基保护基团;R10和R11独立地选自卤素;任选地,所述制备方法还包括:4将化合物RM06进行氨基脱保护,得到化合物Ⅰ, 4'化合物RM06与修饰试剂反应,得到化合物RM07, 5'将化合物RM07进行氨基脱保护,得到化合物Ⅱ, 其中,R1选自:卤素、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、C1-10烷基、C3-10环烷基、-OC0-10烷基、-NC0-10烷基C0-10烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、C6-18芳香基、-N杂环芳香基、-S杂环芳香基或-O杂环芳香基、环烷基烷基、芳烷基、杂环基烷基,所述碳或氮原子上的H可被以下基团取代:氘代、羟基、卤素、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、C1-6直链烷基、-NC0-10烷基C0-10烷基、-OC0-10烷基、C3-10环烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、C6-18芳香基、-N杂环芳香基、-O杂环芳香基或-S杂环芳香基;其中C6-18芳香基或杂环芳香基上的H可被以下一个或多个基团任意取代:卤素、C1-4直链烷基、-NC0-10烷基SO2C0-10烷基、-CONC0-10烷基C0-10烷基、-NC0-10烷基COC0-10烷基、-NC0-10烷基COOC0-10烷基、-OCONC0-10烷基C0-10烷基、-CN、-OCH2F、-OCHF2、-OCF3、-NC0-10烷基C0-10烷基、-OC0-10烷基、-N杂环芳香基、-O杂环芳香基或-S杂环芳香基,或所述C6-18芳香基、杂环芳香基上相邻的碳原子形成C3-8环烷基、-O杂环烷基、-N杂环烷基、-S杂环烷基、或-N杂环芳香基、-O杂环芳香基、-S杂环芳香基。

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