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申请/专利权人：嘉兴驭光光电科技有限公司
申请日：2024-04-01
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118263087A
主分类号：H01J37/32
分类号：H01J37/32;G02B5/18
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本申请公开了一种离子束刻蚀装置和方法、挡板机构及用于加工光栅的装置，其中离子束刻蚀装置包括离子源、挡板机构和控制机构，挡板机构包括布置在垂直于离子源发射的离子束的平面内的至少一个可变形挡板，每一个可变形挡板包括多个子挡板，多个子挡板各自呈纵长形状，彼此紧密地并排布置，并且设置为能够沿其纵长方向相对于彼此活动从而改变可变形挡板的形状，控制机构配置为在发射离子束的同时控制挡板垂直于第一方向运动，以改变允许离子束穿过挡板机构的区域。根据本发明实施例的离子束刻蚀装置和方法中，采用可变形挡板灵活、便利地改变离子束刻蚀的区域的形状，能够实现具有渐变深度结构的光栅的加工。
主权项：1.一种离子束刻蚀装置，包括：离子源，所述离子源沿第一方向发射离子束；挡板机构，所述挡板机构包括至少一个挡板，每个所述挡板布置在垂直于所述第一方向的平面内，用于至少部分地遮挡所述离子束；和控制机构，用于控制所述离子源和所述挡板机构，其中，所述挡板包括至少一个可变形挡板，每一个所述可变形挡板包括多个子挡板，所述多个子挡板各自呈纵长形状，彼此紧密地并排布置，并且设置为能够沿其纵长方向相对于彼此活动从而改变所述可变形挡板的形状；并且所述控制机构配置为在所述离子源发射离子束的同时控制所述挡板垂直于所述第一方向运动，以改变允许离子束穿过所述挡板机构的区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 嘉兴驭光光电科技有限公司 离子束刻蚀装置和方法、挡板机构及用于加工光栅的装置
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