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一种异质集成梳齿MEMS调控应力的GaN基多量子阱光电子芯片 

申请/专利权人:南京邮电大学

申请日:2024-03-28

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118263380A

主分类号:H01L33/48

分类号:H01L33/48;H01L33/00;B81B7/02;B81C3/00

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明涉及信息材料和可见光通信技术领域,公开了一种异质集成梳齿MEMS调控应力的GaN基多量子阱光电子芯片,将经过刻蚀的SOI片与倒置的GaN基LED器件进行金—金键合,键合后进行背面刻蚀,使得LED器件和部分MEMS器件悬空。悬空后的结构可以通过控制MEMS引起光电子芯片的形变,使光电子芯片内部产生应力变化。再利用拉曼光谱等手段监测应力变化范围及过程,可用于研究不同应力、不同偏压条件下光电子芯片的出射光谱和探测光谱等参数。本发明首先在SOI片上制备MEMS器件,然后蒸镀电极,利用金‑金键合技术将将MEMS器件和GaN基多量子阱晶圆进行键合,在GaN基多量子阱晶圆上进行LED器件的制备,最后背面刻蚀使得器件悬空,实现对GaN基多量子阱光电子芯片进行应力调控。

主权项:1.一种异质集成梳齿MEMS调控应力的GaN基多量子阱光电子芯片,其特征在于,将经过刻蚀的SOI片与倒置的GaN基LED器件进行金-金键合,键合后进行背面刻蚀,使得LED器件和部分MEMS器件悬空;其结构从下往上依次包括:一硅衬底层;一生长在硅衬底上的BOX层;一生长在BOX上的Si层;一SiO2绝缘层;一蒸镀在SiO2层上的Au-Au键合层;一生长在量子阱有源层上的p型GaN层;一生长在n型GaN层上的GaN量子阱有源层;一n型GaN层。

全文数据:

权利要求:

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