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聚合物、包含其的光致抗蚀剂组合物及图案形成方法 

申请/专利权人:罗门哈斯电子材料有限责任公司

申请日:2023-12-28

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118255930A

主分类号:C08F220/30

分类号:C08F220/30;C08F220/18;C08F212/14;G03F7/004

优先权:["20221228 US 18/090145"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:公开了一种聚合物,其包含:包含砜基的第一重复单元,其中该砜基直接键合至具有式‑CRaRb‑的基团;以及包含酸不稳定基团、可碱分解基团、极性基团、或其组合的第二重复单元,其中Ra和Rb各自独立地是氢、卤素、取代或未取代的C1‑30烷基、取代或未取代的C3‑30环烷基、取代或未取代的C3‑30杂环烷基、取代或未取代的C2‑30烯基、取代或未取代的C3‑30环烯基、取代或未取代的C3‑30杂环烯基、取代或未取代的C6‑30芳基、取代或未取代的C7‑30芳基烷基、取代或未取代的C7‑30烷基芳基、取代或未取代的C2‑30杂芳基、取代或未取代的C3‑30杂芳基烷基、或取代或未取代的C3‑30烷基杂芳基,前提是Ra和Rb中的至少一个是氢。

主权项:1.一种聚合物,其包含:包含砜基的第一重复单元,其中所述砜基直接键合至具有式-CRaRb-的基团;以及包含酸不稳定基团、可碱分解基团、极性基团、或其组合的第二重复单元,其中Ra和Rb各自独立地是氢、卤素、取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C3-30杂环烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C3-30环烯基、取代或未取代的C3-30杂环烯基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C7-30烷基芳基、取代或未取代的C2-30杂芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基烷基、或取代或未取代的C3-30烷基杂芳基,前提是Ra和Rb中的至少一个是氢。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 罗门哈斯电子材料有限责任公司 聚合物、包含其的光致抗蚀剂组合物及图案形成方法

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