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一种基质喷涂均匀度的评价方法、装置、存储介质及应用 

申请/专利权人:苏州帕诺米克生物医药科技有限公司

申请日:2022-12-28

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118261843A

主分类号:G06T7/00

分类号:G06T7/00;G01N27/62;G06T7/11;G06T7/90

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明属于质谱检测技术领域,具体涉及一种基质喷涂均匀度的评价方法。所述评价方法包括:获取基质喷涂后的光学图像数据,将光学图像划分为一个或多个单元格;对单元格中的目标像素点进行统计分析,计算目标像素点在单元格中出现的概率。通过本发明的评价方法为基质喷涂均匀性评价提供了科学客观的评价指标,避免了人为主观判断的不一致和不准确的问题。

主权项:1.一种基质喷涂均匀性的评价方法,其特征在于,所述方法包括:获取基质喷涂后的光学图像数据,将光学图像划分为多个单元格;对单元格中的目标像素点进行统计分析,计算目标像素点在单元格中出现的概率。

全文数据:

权利要求:

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