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申请/专利权人：ASML控股股份有限公司
申请日：2020-09-14
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN114514474B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;G03F9/00;G01N21/956
优先权：["20190927 US 62/907,028"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权;2022.06.03#实质审查的生效;2022.05.17#公开
摘要：一种系统500，包括照射系统502、透镜元件506和检测器504。所述照射系统产生辐射束510，该辐射束在光瞳平面528处具有第一空间强度分布800以及在目标514的平面处具有第二空间强度分布900。所述第一空间强度分布包括环形强度轮廓802或与三个或更多个束对应的强度轮廓。所述透镜元件将所述束聚焦到所述目标上。所述第二空间强度分布与所述第一强度分布是共轭的，并且具有与中心束902以及与所述中心束基本上隔离的一个或更多个旁瓣904对应的强度轮廓。所述中心束在所述目标处具有约20微米或更小的束直径。所述检测器接收由所述目标散射的辐射并且基于所接收的辐射产生测量信号。
主权项：1.一种量测系统，包括：照射系统，所述照射系统被配置成产生辐射束，该辐射束在光瞳平面处具有第一空间强度分布以及在目标的平面处具有第二空间强度分布，其中所述第一空间强度分布包括环形强度轮廓或与部分地叠置的三个或更多个束对应的强度轮廓；透镜元件，所述透镜元件被配置成将所述束聚焦到所述目标上，其中，所述第二空间强度分布与所述第一空间强度分布是共轭的并且包括与中心束和与所述中心束基本上隔离的一个或更多个旁瓣对应的强度轮廓，并且其中，所述中心束在所述目标处具有20微米或更小的束直径；以及检测器，所述检测器被配置成接收由所述目标散射的辐射并且基于所接收的辐射产生测量信号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML控股股份有限公司 光刻设备、量测系统和具有结构化照射的照射系统
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