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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种用于EUV系统的导管结构，其中导管的非水平内部表面设置有流动障碍物，该流动障碍物阻止熔融目标材料跨表面流动，以使熔融目标材料冻结在内部表面上并且被内部表面捕获。在导管是目标材料微滴从EUV腔室流出所通过的导管的情况下，导管的侧面上的流动障碍物确保最初被导管的上部表面捕获并且流到侧壁的熔融目标材料粘附到侧壁并且避开实际微滴路径。这确保导管中的开口被维持，从而允许预期流动。导管结构可以放置在例如其中生成EUV辐射的腔室的内部和目标材料容器之间。
主权项：1.一种导管结构，被适配为放置成与用于极紫外EUV辐射源的腔室的内部流体连通，目标材料在所述腔室中被变换，所述导管结构包括至少一个侧壁，所述至少一个侧壁面向所述导管结构的内部，所述侧壁的至少一部分设置有多个流动障碍物，所述多个流动障碍物被布置为阻止熔融目标材料跨所述侧壁的所述部分流动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 EUV目标材料回收装置
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