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申请/专利权人：上海普达特设备科技有限公司;上海普达特半导体设备有限公司;普达特半导体设备(徐州)有限公司
摘要：本实用新型提供一种硅片烘干装置，通过设置冷风供应系统及热风供应系统，可实现对硅片采用冷热风刀相组合的烘干方式，从而可先利用冷风刀吹扫掉位于硅片表面上的大部分的水分，而后在硅片传输至热风供应系统后，通过对应设置的具有高风量的第一上热风刀与第一下热风刀可进一步的对位于硅片表面上的水分进行吹扫，随后再经过对应设置的具有低风量的第二上热风刀及第二下热风刀，以实现对硅片表面水分的蒸发，达到烘干效果，实现节能且增加效率的烘干目的。
主权项：1.一种硅片烘干装置，其特征在于，所述硅片烘干装置包括：槽体；滚轮传输结构，所述滚轮传输结构包括设置于所述槽体内且对应设置的上滚筒及下滚筒，通过所述上滚筒及所述下滚筒传输硅片；冷风供应系统，所述冷风供应系统包括对应设置于所述槽体内的上冷风刀及下冷风刀，以分别向硅片的上下表面提供冷风；热风供应系统，所述热风供应系统包括对应设置于所述槽体内的第一上热风刀与第一下热风刀及第二上热风刀与第二下热风刀，以分别向硅片的上下表面提供热风，且沿硅片的传输方向，所述第一上热风刀位于所述上冷风刀与所述第二上热风刀之间，所述第一下热风刀位于所述下冷风刀与所述第二下热风刀之间，且所述冷风供应系统提供的风压大于所述热风供应系统提供的风压，所述第一上热风刀提供的风量大于所述第二上热风刀提供的风量，所述第一下热风刀提供的风量大于所述第二下热风刀提供的风量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海普达特设备科技有限公司 上海普达特半导体设备有限公司 普达特半导体设备(徐州)有限公司 硅片烘干装置
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