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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明提供一种能够合适地处理基板的基板处理装置。基板处理装置1具有处理单元14和控制部18。处理单元14对基板W进行处理。控制部18控制处理单元14。处理单元14具有板32、旋转驱动部45、固定销33、气体吹出口34、吹出调节部40、处理液供给部51以及流量调节部57。控制部18根据被固定销33支撑的基板W的形状、板32的转速RS、以及处理液供给部51向被固定销33支撑的基板W供给的处理液的流量FR中的至少任一个，改变气体吹出口34吹出的气体的流量。
主权项：1.一种基板处理装置，其中，具有：处理单元，对基板进行处理；以及控制部，控制所述处理单元，所述处理单元具有：板，具有上表面；旋转驱动部，使所述板旋转；支撑部，从所述板的所述上表面向上方突出，与基板的下表面以及基板的端缘中的至少任一个接触，在比所述板的所述上表面高的位置支撑基板；气体吹出口，形成于所述板的所述上表面，将气体向上方吹出；吹出调节部，调节所述气体吹出口吹出的气体的流量；处理液供给部，向被所述支撑部支撑的基板供给处理液；以及流量调节部，调节所述处理液供给部向基板供给的处理液的流量，所述控制部根据被所述支撑部支撑的基板的形状，改变所述气体吹出口吹出的气体的所述流量。
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