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基板处理装置以及基板处理方法 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:一种能够提高多个基板间利用处理液的处理结果的均一性的基板处理装置100,其包括温度检测部17及控制部30。温度检测部17在预分配处理执行中的处理液的温度到达目标温度Tt之前,对处理液的温度进行检测。控制部30基于目标温度预测时间tP,来设定预分配处理中的处理液的喷出停止时间。目标温度预测时间是指处理液的温度自检测温度Td起到达目标温度Tt为止的预测时间。检测温度Td是指通过温度检测部17在到达目标温度Tt之前检测出的处理液的温度。目标温度预测时间tP是基于温度分布图PF而定。温度分布图PF是指过去依照预分配处理条件执行预分配处理时的处理液的温度的时间推移的记录。

主权项:1.一种基板处理装置,利用处理液来对基板进行处理,包括:基板保持部,保持着所述基板进行旋转;喷嘴,对所述经保持的基板喷出所述处理液;供给调节部,调节所述处理液向所述喷嘴的供给量;受液部,与所述基板保持部相比而位于外侧,接受所述喷嘴所喷出的所述处理液;温度检测部,在预分配处理执行中的所述处理液的温度到达目标温度之前,检测所述处理液的温度;以及控制部,依照预分配处理条件控制所述供给调节部,来执行所述预分配处理,所述预分配处理是指在对所述基板喷出所述处理液之前,朝向所述受液部喷出所述处理液的处理,所述控制部基于目标温度预测时间,来设定所述预分配处理中的所述处理液的喷出停止时间,所述目标温度预测时间是指所述处理液的温度自检测温度起到达所述目标温度为止的预测时间,所述检测温度是指通过所述温度检测部在到达所述目标温度之前检测出的所述处理液的温度,所述目标温度预测时间是基于温度分布图而定,所述温度分布图是指过去依照所述预分配处理条件执行所述预分配处理时的所述处理液的温度的时间推移的记录,所述喷嘴针对每个基板进行处理时,在所述预分配处理中从所述喷嘴向所述受液部喷出所述处理液,在所述预分配处理后,向所述基板喷出所述处理液。

全文数据:

权利要求:

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