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申请/专利权人：上海科技大学
摘要：本发明的技术方案是提供了一种均匀烧蚀靶材的大面积脉冲激光沉积方法。通过样品台和靶材的中心对齐、靶材和基片的错频自转、可调速步进电机对光路的精确控制，以及激光光斑相对于靶材中心位移的反比速率扫描，实现靶材的均匀烧蚀，从而长效稳定地提高大面积脉冲激光沉积系统制备薄膜的质量和效率。
主权项：1.一种均匀烧蚀靶材的大面积脉冲激光沉积方法，其特征在于，通过均匀烧蚀靶材实现长效稳定的大面积薄膜均匀生长，包括以下步骤：步骤1、大面积脉冲激光沉积系统的样品台和靶材大小相同，将样品台和靶材的中心调至对齐，激光源产生的激光光斑通过反射镜和透镜镜组聚焦到靶材中心；步骤2、将反射镜和透镜固定在直线位移台上，通过步进电机控制直线位移台平移，从而达到控制激光光斑在靶材上可控速率扫描的效果；步骤3、沉积薄膜时，靶材和样品台分别以不同的频率自转，防止出现同一靶面位置的羽辉只沉积在基片的同一区域以致降低均匀性；步骤4、以靶材中心为零点，激光光斑位置与中心距离为d，控制激光光斑以与位移成反比的速率扫描靶材表面，并通过步进电机的编程控制实现激光光斑从靶材中心到边缘的往复运动，最终实现大面积薄膜的均匀制备和靶材的均匀烧蚀。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海科技大学 一种均匀烧蚀靶材的大面积脉冲激光沉积方法
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