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基板处理方法以及基板处理装置 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:基板处理装置的喷嘴移动机构能够在从与基板9的上表面91的外周缘部93对置的最外位置至径向的内侧,使喷嘴部31接近上表面91并沿上表面91移动。在基板处理中,进行一边使喷嘴部31沿旋转的基板9的上表面91移动一边从喷嘴部31向上表面91喷出处理液的第一喷出动作、以及从停止在最外位置的喷嘴部31向旋转的基板9的上表面91喷出处理液的第二喷出动作。第二喷出动作中的基板9的转速比第一喷出动作中的转速高,或者以及第二喷出动作中的处理液的喷出流量比第一喷出动作中的喷出流量低。由此,能够将利用处理液对外周缘部93进行的追加处理限定在狭窄的范围内进行。

主权项:1.一种基板处理方法,是基板处理装置的基板处理方法,其特征在于,上述基板处理装置具备:基板保持部,其以水平状态保持圆板状的基板;基板旋转机构,其使上述基板保持部旋转;处理液供给部,其从喷嘴部朝向上述基板的上表面喷出处理液;以及喷嘴移动机构,其能够在从与上述上表面的外周缘部对置的最外位置至径向的内侧,使上述喷嘴部接近上述上表面并且沿上述上表面移动,上述基板处理方法包括以下工序:a一边使上述喷嘴部沿旋转的上述基板的上述上表面移动,一边从上述喷嘴部向上述上表面喷出上述处理液,或者从停止在与上述上表面的中央部对置的中央位置的上述喷嘴部向旋转的上述基板的上述上表面喷出上述处理液的工序;以及b从停止在上述最外位置的上述喷嘴部向旋转的上述基板的上述上表面喷出上述处理液的工序,由配置于上述最外位置的上述喷嘴部向比上述基板的外周端面更靠内侧的区域喷出上述处理液,上述b工序中的上述基板的转速比上述a工序中的上述转速高,或者以及上述b工序中的上述处理液的喷出流量比上述a工序中的上述喷出流量低。

全文数据:

权利要求:

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