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申请/专利权人：恪纳腾技术公司
摘要：本申请涉及一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图案。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版的数据分析检查晶片所产生的数据来检测晶片上的缺陷，代表掩模版的数据包括标识所述掩模版不同类型部分的标记物。再一种计算机实现的方法包括基于更改了晶片上形成的器件的特性的缺陷，确定用来处理晶片的制造工艺的性能。又一种计算机实现的方法包括基于检查晶片所产生的数据，更改或者模拟集成电路设计的一个或更多个特性。
主权项：1.一种计算机实施的方法，所述方法包括：确定在掩模版上检测到的缺陷的设计重要性，其中，所述设计重要性是对所述缺陷如何影响所述掩模版的设计的度量；确定所述缺陷的光刻重要性，其中，所述光刻重要性是对所述缺陷如何影响通过使用所述掩模版的光刻工艺被图案化的晶片的度量；基于所述设计重要性和所述光刻重要性，确定所述缺陷的总体重要性，以及分别基于所述缺陷的所述总体重要性和为另一缺陷确定的总体重要性，确定用来修理在所述掩模版上检测到的所述缺陷和所述另一缺陷的工艺的一个或多个参数，其中所述工艺包括修理所述缺陷和所述另一缺陷，并且其中确定用来修理所述缺陷和所述另一缺陷的所述工艺的所述一个或多个参数包括分别基于为所述缺陷和所述另一缺陷确定的所述总体重要性确定用来修理所述缺陷和所述另一缺陷的所述工艺的所述一个或多个参数是不同的。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 恪纳腾技术公司 使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统
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