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申请/专利权人：西安邮电大学
摘要：本发明公开了一种精确摩尔配比的高熵薄膜及其制备方法；本发明使用电子束蒸发制备金属多层膜，由金属膜层厚度和校准系数的乘积精确控的制各金属元素的摩尔配比，并在大气环境下进行750℃退火，即可形成元素配比准确高质量尖晶石结构高熵热敏薄膜材料；采用的电子束蒸发设备可放置6个或者更多个坩埚，可将高熵材料所需的金属元素颗粒放入不同的坩埚中，依次蒸发从而形成金属多层膜；各金属元素的摩尔比通过控制各金属膜厚和校准系数的乘积来进行校准；本发明方法所制备的高熵热敏薄膜材料具有结晶度好、致密度高、耐老化性能好、成本低廉等优点。
主权项：1.一种精确摩尔配比的高熵薄膜，其特征在于：所述高熵薄膜的化学组成为Mn（1.9-x）Zn0.2Ni0.6MgxAl0.3O4，其中X=0.1或0.2或0.3或0.4。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安邮电大学 一种精确摩尔配比的高熵薄膜及其制备方法
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