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申请/专利权人：日东电工株式会社
摘要：本发明的课题在于提供不容易被所容纳的处理液侵蚀的偏光薄膜制造用的处理槽及偏光薄膜的制造装置。在由薄膜原卷3制作偏光薄膜时使用的用于容纳处理液的处理槽中，前述处理槽具有金属制的槽主体11以及覆盖前述槽主体11的内表面的被覆层12，前述被覆层12由伸长率为150％以上的被覆材料形成。
主权项：1.一种偏光薄膜制造用的处理槽，其是用于容纳由薄膜原卷制作偏光薄膜时使用的处理液的处理槽，其中，所述处理槽具有金属制的槽主体以及覆盖所述槽主体的内表面的被覆层，所述被覆层由伸长率为150％～500％的被覆材料形成。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日东电工株式会社 偏光薄膜制造用的处理槽及偏光薄膜的制造装置
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