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申请/专利权人:青岛华芯晶电科技有限公司
摘要:本发明公开了可翻面的陶瓷盘清洗装置及其清洗方法,涉及陶瓷盘清洗技术领域,为解决现有的陶瓷盘清洗在进行双面清洗的时候,需要手动翻面,或者使用固定架固定陶瓷盘,然后将固定架进行翻面,固定架与陶瓷盘接触,接触的位置相对于没有接触的位置就会清洗不干净,需要多次清洗,导致清洗效果差,还费时费力的问题。所述清洗箱的内部设置有清洗腔,且清洗腔与清洗箱为一体结构;还包括:清洗搭放板,其设置在所述清洗腔的内部,所述清洗搭放板的上端设置有等距安装的橡胶缓冲架,且橡胶缓冲架设置有若干个,所述清洗搭放板的上表面设置有下水孔,且下水孔贯穿清洗搭放板,所述下水孔设置有若干个。
主权项:1.可翻面的陶瓷盘清洗装置,包括清洗箱1,所述清洗箱1的内部设置有清洗腔2,且清洗腔2与清洗箱1为一体结构;其特征在于:还包括:清洗搭放板9,其设置在所述清洗腔2的内部,所述清洗搭放板9的上端设置有等距安装的橡胶缓冲架10,且橡胶缓冲架10设置有若干个,所述清洗搭放板9的上表面设置有下水孔11,且下水孔11贯穿清洗搭放板9,所述下水孔11设置有若干个;排气管14,其设置在所述清洗搭放板9靠近前端的下方,所述排气管14的一端设置有排气管进气口24,所述排气管14的另一端设置有排气管出气口25,且排气管进气口24和排气管出气口25与排气管14均为一体结构,所述排气管14的上表面设置有排气孔15。
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