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申请/专利权人：天合光能股份有限公司
摘要：本申请涉及一种清洗装置，包括工作区域、至少两个输送单元、至少两个驱动单元和至少两个第一传动单元。工作区域包括间隔设置的上料区和药液区；至少两个驱动单元至少分别设置于上料区和药液区。通过在上料区和药液区等多个工作区域分别设置驱动单元，以驱动对应工作区域的输送辊转动，从而能够方便地调节对应工作区域的输送速度，进而方便地控制待清洗件在不同工作区域的停留时间。以待清洗件为硅片为例，当药液区无法一次性将硅片清洗干净时，无需放低整个工作区域的整体速度，单独放慢药液区的输送速度，使清洗药液与硅片充分接触，保证硅片清洗效果的同时，保证硅片整体的生产效率。
主权项：1.一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括：工作区域，包括间隔设置的上料区（110）和药液区（120）；至少两个输送单元（200），至少分别设置于所述上料区（110）和所述药液区（120）；所述输送单元（200）包括多个沿输送方向间隔设置的输送辊（210），所述输送辊（210）用于支撑待清洗件；至少两个驱动单元（400），至少分别设置于所述上料区（110）和所述药液区（120）；至少两个第一传动单元（300），至少分别设置于所述上料区（110）和所述药液区（120）；所述第一传动单元（300）连接于所述驱动单元（400）和所述输送辊（210）之间，以将所述驱动单元（400）的动力传递至每一所述输送辊（210）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 天合光能股份有限公司 清洗装置
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