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申请/专利权人：华南理工大学
摘要：一种超低应力金属薄膜的制备方法，包括以下步骤：将超声清洗干燥后的非金属基底放入磁控溅射镀膜机的样品台上，进行等离子体清洗；在等离子体清洗后的非金属基底的表面上，通过第一阴极电源沉积多层厚度相同的单金属过渡层，以得到预设厚度的金属过渡层；在金属过渡层的表面上，通过第二阴极电源沉积多层单金属膜层，以得到预设厚度的金属薄膜，且相邻的三层单金属膜层中，有两层单金属膜层采用的溅射功率相等。本发明通过将金属过渡层设计为多层纳米单金属过渡层，可以降低非金属基底与金属过渡层界面处的残余应力梯度，从而增强界面处的相互作用，通过混合功率将金属薄膜设计为多层纳米单金属膜层，可以分散金属薄膜的热应力变形，有效降低金属薄膜的残余应力，从而实现残余应力的可控性。
主权项：1.一种超低应力金属薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S11，将超声清洗干燥后的非金属基底放入磁控溅射镀膜机的样品台上，进行等离子体清洗；步骤S12，在等离子体清洗后的非金属基底的表面上，通过第一阴极电源沉积多层厚度相同的单金属过渡层，以得到预设厚度的金属过渡层，其中，所述金属过渡层包括5~10层单金属过渡层，且单金属过渡层的厚度为10~30nm，所述单金属过渡层中的金属为钛、铬或锆当中的一种；步骤S13，在金属过渡层的表面上，通过第二阴极电源沉积多层单金属膜层，以得到预设厚度的金属薄膜，且相邻的三层单金属膜层中，有两层单金属膜层采用的溅射功率相等，其中，所述金属薄膜的厚度为1~5μm，应力低于5Mpa，所述金属薄膜包括3~50层单金属膜层，且单金属膜层的厚度为100~300nm，所述单金属膜层中的金属为铜、铝、银或金当中的一种。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华南理工大学 一种超低应力金属薄膜的制备方法
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