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一种曝光装置 

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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

摘要:本实用新型提供一种曝光装置,属于曝光技术领域,曝光装置包括曝光组件、用于发射光源的发光件、以及多个支撑架,支撑架用于支撑晶圆,曝光组件包括分光件和多个反射镜,分光件位于发光件的发射范围之内,且分光件上的多个分光部分别朝向发光件的发射范围之外,通过多个分光部将发光件发射的光源进行多个方向的反射,以使自发光件发射的光源切分成多个子光源,其中,每个子光源的反射方向均设有一反射镜,通过该设置,可以实现一个发光件可以对多个晶圆进行曝光处理,从而解决了现有技术中存在操作繁琐,产出效率低的问题。

主权项:1.一种曝光装置,用于对晶圆进行曝光,其特征在于,所述曝光装置包括曝光组件、用于发射光源的发光件、以及多个支撑架,所述支撑架用于支撑所述晶圆;所述曝光组件包括分光件和多个反射镜,所述分光件位于所述发光件的发射范围之内,且所述分光件上的多个分光部分别朝向所述发光件的发射范围之外,通过多个所述分光部将所述发光件发射的光源进行多个方向的反射,以使自所述发光件发射的光源切分成多个子光源;其中,每个所述子光源的反射方向均设有一所述反射镜,通过多个所述反射镜将多个所述子光源进行再次反射,使得每个所述子光源分别对应所述支撑架上的晶圆,以通过多个所述子光源对多个所述晶圆进行曝光。

全文数据:

权利要求:

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