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一种兰科石斛景观种植方法 

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申请/专利权人:德宏鑫禾农业科技开发有限责任公司

摘要:本发明公开的一种兰科石斛景观种植方法,包括如下步骤:将石斛种子杀菌后在栽培基质上培养,进行浇灌施肥,直至发芽,将其切段、消毒,离体培养,待茎段上长出新芽,将新芽切下,接种在培养基中长成丛生芽,将丛生芽切成单苗继续进行培养,待具有2~4片真叶时,进行生根后,在4月上旬将需要培育的石斛移栽在种植容器中,种植好的石斛放置于室内,培育养殖2年。本发明属于石斛种植技术领域,本发明提供一种兰科石斛景观种植方法,延长石斛的生长周期,提高石斛移栽成活率,解决开花困难,花期短,长势较差、花朵品质差甚至不开花,无法达到观赏价值的问题。

主权项:1.一种兰科石斛景观种植方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:将石斛种子放置在散光处晒凉三个小时,以杀死表面的细菌,然后浸泡在高锰酸钾溶液中3-5分钟;步骤二:将种子均匀种植在栽培基质上,种植后即用喷雾装置进行喷雾化水,使栽培基质保持湿润,顶起施肥喷雾施加营养液,直至发芽成株;步骤三:将其切成长度为1~2cm的茎段,每个茎段上都带有1~2个腋芽,用自来水冲洗干净,放入75%的酒精中浸泡20~40s,再用0.1%的升汞消毒10min,最后用无菌水冲洗5~8次,在超净工作台上将上述准备好的茎段放入已灭过菌的基本培养基中,进行离体培养,待茎段上长出新芽,将新芽切下,接种在培养基中长成丛生芽,将丛生芽切成单苗继续进行培养,待单苗长到2~4cm,具有2~4片真叶时,将其转到生根培养基中进行生根培养,当根系长到3~5cm时,在4月上旬将需要培育的石斛移栽在种植容器中;步骤四:种植好的石斛放置于室内,室温控制在15℃-25℃,培育养殖2年。

全文数据:

权利要求:

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