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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法。课题是提供具有与抗蚀剂上层膜的高密合性，具有抑制微细图案的崩塌效果且同时能形成良好的图案形状的密合膜的密合膜形成材料、图案形成方法、及该密合膜的形成方法。解决手段是一种密合膜形成材料，是形成于抗蚀剂上层膜的正下方的密合膜的密合膜形成材料，含有A具有含酸解离性基团的结构单元及至少2种的下述通式1表示的结构单元的树脂、及C有机溶剂，进一步地，更含有B光酸产生剂、或该A树脂具有借由光而产生酸的结构单元、或者具有两者。下述通式1中，R1是氢原子或甲基，R2选自下式1‑1～1‑3中的基团，虚线表示原子键。
主权项：1.一种密合膜形成材料，是形成于抗蚀剂上层膜的正下方的密合膜的密合膜形成材料，其特征为：该密合膜形成材料含有A具有含酸解离性基团的结构单元及至少2种的下述通式1表示的结构单元的树脂、及C有机溶剂，进一步地，更含有B光酸产生剂、或该A树脂具有借由光而产生酸的结构单元、或者更含有该B光酸产生剂且该A树脂具有借由光而产生酸的结构单元； 该通式1中，R1是氢原子或甲基，R2选自下式1-1～1-3中的基团； 上式中，虚线表示原子键。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法
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