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识别方法、识别装置、半导体处理设备及可读存储介质 

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申请/专利权人:深圳中科飞测科技股份有限公司

摘要:本申请公开了一种识别方法。识别方法用于识别特征图案阵列的偏转角度,每个特征图案包括位置已知的特征点,识别方法包括:选取一个特征点作为第一基准点;搜索与第一基准点共线的一个或多个特征点作为拟合点;拟合第一基准点与拟合点,以得到沿第一方向延伸的第一基准线;基于第一基准线识别特征图案阵列的偏转角度。本申请还公开了一种识别装置、半导体处理设备及计算机可读存储介质。通过在已知位置的特征点中选取第一基准点,并拟合第一基准点与一个或多个拟合点,以得到第一基准线,第一基准线反映了特征图案阵列的偏转角度信息,依据第一基准线可以识别到特征图案阵列的偏转角度。

主权项:1.一种识别方法,其特征在于,用于识别特征图案阵列的偏转角度,每个所述特征图案包括位置已知的特征点,所述识别方法包括:选取一个特征点作为第一基准点;搜索与所述第一基准点共线的一个或多个特征点作为拟合点;拟合所述第一基准点与所述拟合点,以得到沿第一方向延伸的第一基准线;依据所述第一基准线、所述特征图案的尺寸及多个特征点的位置,获取多个特征点排布的第一拟合线,包括:以所述第一基准点为起点,沿所述第一方向,依据所述特征图案的尺寸,确定在所述第一基准线上存在的第一理论点;分别穿过每个所述第一理论点,获取与所述第一基准线呈预设角度的直线,以获取一个沿第二方向延伸的第一理论线;以所述第一理论点为起点,沿所述第二方向,依据所述特征图案的尺寸,确定在所述第一理论线上存在的第二理论点;搜索与每个在所述第一理论线上存在的第二理论点距离最近的一个特征点作为第一共线特征点;及拟合所述第一共线特征点,以得到第一拟合线;其中,所述特征图案为多边形,所述预设角度为所述特征图案的相邻两条边之间所呈的角度;及基于多个所述第一拟合线识别所述特征图案阵列的偏转角度。

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