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一种碳化硅外延设备的CVD反应模块 

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申请/专利权人:湖北锦瓷新材料科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种碳化硅外延设备的CVD反应模块,包括反应箱,所述反应箱的内部设置有放置盘,通过所述放置盘用于放置晶元,所述反应箱的上端面设置有进气管,所述反应箱的右侧面设置有冷风机,所述冷风机的输出端固定安装有导流管,所述导流管上设置有排风管,所述排风管的出口延伸至反应箱的内部,所述反应箱上设置有排放管。本实用新型在使用的过程中,通过在CVD反应箱上设置冷风机,利用冷风机将冷气通入到反应箱中,通过冷气对工件冷却,提高工件冷却的效率,并且吹出的冷气带动废气通过排放管快速地排出反应箱外,通过在排放管的尾部设置废气处理组件,从而有效地去除废气中的有害物质,避免CVD反应箱排放的废气造成空气污染。

主权项:1.一种碳化硅外延设备的CVD反应模块,包括反应箱1,其特征在于:所述反应箱1的内部设置有放置盘2,通过所述放置盘2用于放置晶元,所述反应箱1的上端面设置有进气管3;所述反应箱1的右侧面设置有冷风机4,所述冷风机4的输出端固定安装有导流管5,所述导流管5上设置有排风管6,所述排风管6的出口延伸至反应箱1的内部,反应箱1上设置有排放管7,通过冷风的通入便于工件的冷却,同时加快反应箱1内废气的排放;所述排放管7远离反应箱1的一端设置有废气处理组件,通过所述废气处理组件便于将废气中的有害物质清理。

全文数据:

权利要求:

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