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申请/专利权人：TES股份有限公司
摘要：本发明作为关于一种基板处理装置，更详细地关于一种在利用超临界流体来进行针对基板的干燥工艺等的处理工艺的情况下可以防止由基板上的处理液或者有机溶剂的流失导致的基板的损坏等的基板处理装置。一种基板处理装置，其特征在于，具备：腔室，提供利用超临界状态的流体来执行针对涂布有处理液或者有机溶剂的基板的处理工艺的处理空间；以及基板支承单元，在所述腔室内支承所述基板；在所述基板支承单元具备形成为围绕所述基板而防止所述基板上的所述处理液或者所述有机溶剂的流失的环。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：腔室，提供利用超临界状态的流体来执行针对涂布有处理液或者有机溶剂的基板的处理工艺的处理空间；以及基板支承单元，在所述腔室内支承所述基板；在所述基板支承单元具备形成为围绕所述基板而防止所述基板上的所述处理液或者所述有机溶剂的流失的环。
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