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一种用于封装线路基板的铜蚀刻液及其制备方法与应用 

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申请/专利权人:浙江奥首材料科技有限公司

摘要:本发明涉及一种用于封装线路基板的铜蚀刻液及其制备方法与应用。所述的用于封装线路基板的铜蚀刻液,按照重量份计算,包括如下组分:氧化剂1‑10份;无机酸10‑20份;缓蚀剂0.05‑0.25份;添加剂0.05‑0.25份;超纯水50‑80份。本发明采用的氧化剂具有杂环和二价铜离子,因此可以更好的吸附生成的氯化亚铜,再次把亚铜离子氧化成铜离子,让蚀刻速率稳定。由于缓蚀剂的引入,让蚀刻液对铜的蚀刻有各向异性,铜线路的电阻值降低,可靠性更高。添加剂可以与缓蚀剂协同,卤素离子在金属表面发生特性吸附,使金属表面带负电荷,有利于质子化的有机缓蚀剂分子在金属表面吸附,从而进一步提高了缓蚀剂的效果。

主权项:1.一种用于封装线路基板的铜蚀刻液,其特征在于,按照重量份计算,包括如下组分: 其中,所述的氧化剂为二氯铜杂环化合物。

全文数据:

权利要求:

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