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申请/专利权人：默克专利有限公司
摘要：[课题]提供能够形成耐酸蚀刻的含硅膜的聚碳硅氮烷和包含该聚碳硅氮烷的组合物。[解决方案]本发明提供一种聚碳硅氮烷，其包含‑[R1R2Si‑CH2n]‑和‑R3R4Si‑NR5‑的重复单元，其中R1、R2、R3和R4各自独立地为单键、氢或C1‑4烷基；R5独立地为单键或氢；n为1至2，以及一种包含该聚碳硅氮烷的组合物。本发明还提供了一种形成含硅膜的方法，包括将该组合物涂布在基材上并加热。
主权项：1.一种聚碳硅氮烷，其包含下式1表示的重复单元和下式2表示的重复单元： 其中，R1、R2、R3和R4各自独立地为单键、氢或C1-4烷基；R5独立地为单键或氢；并且n为1至2；其中，1H-NMR谱图中1.7至2.2ppm之间的积分强度相对于1.7至2.2ppm之间的积分强度和1.0至1.6ppm之间的积分强度之和的比为0.05至0.5；其中1H-NMR的测定是通过如下方式进行的：将0.4g聚碳硅氮烷溶解在1.6g氘代氯仿中得到样品溶液，将四甲基硅烷加入到样品溶液中作为校准化学位移的内标，使用JEOLLtd.的核磁共振装置JNM-ECS400型测定样品溶液80次以获得1H-NMR谱图；其中通过29Si-NMR测定，该聚碳硅氮烷不含Si-Si键；其中29Si-NMR的测定是通过如下方式进行的：将0.4g聚碳硅氮烷溶解在1.6g氘代氯仿中得到样品溶液，将四甲基硅烷加入到样品溶液中作为校准化学位移的内标，使用JEOLLtd.的核磁共振装置JNM-ECS400型测定样品溶液1,000次以获得29Si-NMR谱图；其中该聚碳硅氮烷的N1N1+N2比为0.02至0.33，其中N1为式1表示的重复单元数，N2为式2表示的重复单元数。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 默克专利有限公司 聚碳硅氮烷和包含其的组合物以及使用其制造含硅膜的方法
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