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申请/专利权人：无锡中微亿芯有限公司
摘要：本申请涉及一种集成电路版图的过孔添加方法、装置、设备和存储介质。方法包括：根据预设的过孔结构数据对集成电路版图进行设计规则检查，得到设计规则检查结果数据；解析设计规则检查结果数据，得到缺少过孔的目标金属层及目标金属层中待添加过孔的尺寸数据；根据待添加过孔的尺寸数据计算待添加过孔的行数和列数，根据行数和列数生成待添加过孔阵列数据；通过预设过孔添加函数根据待添加过孔阵列数据将待添加过孔添加至集成电路版图中。采用本方法能够提升修改集成电路版图过程中添加过孔的效率。
主权项：1.一种集成电路版图的过孔添加方法，其特征在于，所述方法包括：根据预设的过孔结构数据对集成电路版图进行设计规则检查，得到设计规则检查结果数据；解析所述设计规则检查结果数据，得到缺少过孔的目标金属层及所述目标金属层中待添加过孔的尺寸数据；根据待添加过孔的尺寸数据计算所述待添加过孔的行数和列数，根据所述行数和列数生成待添加过孔阵列数据；通过预设过孔添加函数根据所述待添加过孔阵列数据将所述待添加过孔添加至所述集成电路版图中；所述解析所述设计规则检查结果数据，得到缺少过孔的目标金属层及所述目标金属层中待添加过孔的尺寸数据，包括：提取规则检测数据中的金属层标识信息和过孔标识信息，根据所述金属层标识信息和过孔标识信息生成待添加过孔的尺寸数据的索引键，通过预设坐标匹配函数提取过孔的角点坐标，将所述角点坐标根据预设规则转换成与所述索引键对应的键值；根据所述索引键和所述键值生成并存储所述待添加过孔的尺寸数据。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡中微亿芯有限公司 集成电路版图的过孔添加方法、装置、设备和存储介质
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