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申请/专利权人：季华恒一(佛山)半导体科技有限公司
摘要：本申请涉及离子注入技术领域，具体提供了一种聚焦束流自动调整系统、方法及离子注入机，该系统包括：四极磁透镜组，正对离子源机构的输出端，其包括至少一个X磁透镜和至少一个Y磁透镜；透镜位置调节组件，用于调节X磁透镜和或Y磁透镜的位置；法拉第杯，设置在四极磁透镜组远离离子源机构的一侧，用于采集实际束流大小信息；控制器，与透镜位置调节组件和法拉第杯电性连接，用于根据实际束流大小信息分析当前束流是否为目标束流，还用于在当前束流不是目标束流时，控制透镜位置调节组件调节X磁透镜和或Y磁透镜的位置，以使实际束流大小信息达到最大或使当前束流达到目标束流；该系统能够有效地提高束流聚焦系统的聚焦效果。
主权项：1.一种聚焦束流自动调整系统，应用在离子注入机中，所述离子注入机包括离子源机构，所述离子源机构用于产生束流，其特征在于，所述聚焦束流自动调整系统包括：四极磁透镜组，正对所述离子源机构的输出端，其包括至少一个X磁透镜和至少一个Y磁透镜；透镜位置调节组件，用于调节所述X磁透镜和或Y磁透镜的位置；法拉第杯，设置在所述四极磁透镜组远离所述离子源机构的一侧，用于采集实际束流大小信息；控制器，与所述透镜位置调节组件和所述法拉第杯电性连接，用于根据所述实际束流大小信息分析当前束流是否为目标束流，还用于在所述当前束流不是所述目标束流时，控制所述透镜位置调节组件调节所述X磁透镜和或Y磁透镜的位置，以使所述实际束流大小信息达到最大或使所述当前束流达到所述目标束流。
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权利要求：
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