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申请/专利权人:杭州电子科技大学
摘要:本发明申请公开一种周期性铁电畴结构及其快速制备方法。周期性铁电畴结构包括多个纳米级铁电畴,和分布在纳米级铁电畴之间的相结构,使得多个纳米级铁电畴与相结构呈周期性交替分布,自发形成多相共存结构,所述相结构为顺电相,且该多个纳米级铁电畴以条带状排布于一二维铁电薄膜内。本发明还提供该周期性铁电畴结构的快速制备方法,其通过向一二维铁电薄膜施加一预定大小的温度场,在导热率良好的衬底导热作用下,二维铁电薄膜内可自发形成周期性铁电畴结构。该周期性铁电畴结构的制备方法具有制备效果好、制备效率高、制作工艺简单的优点。
主权项:1.一种周期性二维铁电畴结构,其特征在于,所述周期性二维铁电畴结构位于二维材料薄膜的表面,所述周期性二维铁电畴结构包括条带状的铁电畴和条带状的顺电相,所述条带状的铁电畴和条带状的顺电相周期性交替排列,相邻的两条条带状的铁电畴之间为条带状的顺电相;相邻的两条条带状的顺电相之间为条带状的铁电畴;所述条带状的铁电畴的宽度在100~300纳米之间;相邻两个条带状的铁电畴的中心之间的距离在500~1000纳米之间;所述二维材料薄膜为厚度1~200纳米。
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权利要求:
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