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申请/专利权人：西默有限公司
摘要：一种包括显示屏的计算设备位于光刻曝光设施中。该光刻曝光设施包括一个或多个光刻曝光设备。计算设备被配置为在显示屏上显示：状态区域，其包括一个或多个状态指示符，每个状态指示符与紫外UV光源相关联，该UV光源被配置为向一个或更多个光刻设备中的相应光刻曝光设备提供光；图形区域，包括一个或多个图形，每个图形显示与一个或多个状态指示符有关的信息，以及过滤区域，包括可选择以控制在状态区域和或在一个或多个图形中显示的信息的一个或更多个菜单项。
主权项：1.一种在光刻曝光设施处的计算设备，所述设施包括一个或多个光刻曝光设备，所述计算设备包括显示屏，所述计算设备被配置为在所述显示屏上显示：状态区域，包括一个或多个状态指示符，每个状态指示符与紫外UV光源相关联，所述UV光源被配置为向所述一个或多个光刻设备中的相应光刻曝光设备提供光；图形区域，包括一个或多个图形，每个图形显示与所述一个或多个状态指示符有关的信息；以及过滤区域，包括一个或多个菜单项，所述一个或多个菜单项是能够选择的，以控制在所述状态区域和或所述一个或多个图形中显示的所述信息。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西默有限公司 紫外光源的状态监测和报告
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