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申请/专利权人：宁波市知行光学科技有限公司
摘要：本申请公开了一种生成补偿器的方法，涉及光学的技术领域，本申请的生成补偿器的方法，包括在基底上进行镀膜，形成辅助膜层；在辅助膜层上进行涂胶、曝光和显影，形成原始图案；采用预设气体刻蚀显影后的辅助膜层，并在刻蚀到达基底时，继续刻蚀预设时间段后，停止刻蚀，生成计算全息图；其中，基底的材料与辅助膜层的材料不同，预设气体在基底上的刻蚀速率与在辅助膜层上的刻蚀速率不同。故本申请通过在基底上增加辅助膜层，避免了在离子刻蚀过程中，由于刻蚀腔内不同区域离子浓度不同和其它刻蚀参数不同而导致的刻蚀速率不同，进一步避免了由于不同区域的刻蚀深度不均匀，而影响计算全息图的波前精度。
主权项：1.一种生成补偿器的方法，其特征在于，包括：在基底上进行镀膜，形成辅助膜层；在所述辅助膜层上进行涂胶、曝光和显影，形成原始图案；采用预设气体刻蚀显影后的所述辅助膜层，并在刻蚀到达所述基底时，继续刻蚀预设时间段后，停止刻蚀，生成计算全息图；其中，所述基底的材料与所述辅助膜层的材料不同，所述预设气体在所述基底上的刻蚀速率与在所述辅助膜层上的刻蚀速率不同；所述预设气体在所述基底上的刻蚀速率小于10nms，所述预设气体在所述辅助膜层上的刻蚀速率大于40nms，所述预设时间段时长大于或等于3s且小于或等于5s。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 宁波市知行光学科技有限公司 生成补偿器的方法
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