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申请/专利权人：珠海凯赛奥表面技术有限公司
摘要：本发明提供了一种极薄可剥离铜的制备方法，属于铜箔制备技术领域。本发明首先对载体聚合物进行等离子体清洗，然后在清洗后的载体聚合物上进行高能离子注入，在得到的离子注入载体聚合物上沉积单向结合强度金属，最后在单向结合强度金属沉积的载体聚合物的表面沉积极薄铜，得到极薄可剥离铜。本发明所制备的极薄可剥离铜，单向结合强度金属与载体聚合物之间的结合强度≥0.7Ncm，与铜箔之间的结合强度在0.1～0.2Ncm。并且本发明制备的铜箔致密性好，厚度为1～3μm，表面粗糙度为0.05～0.2μm，耐折次数≥1500次，消耗因子＜0.04，吸水率＜4％，扩展撕裂强度＞4Nmm。
主权项：1.一种极薄可剥离铜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1对载体聚合物进行卷对卷等离子体清洗，得到清洗后的载体聚合物；2对清洗后的载体聚合物进行高能离子注入处理，得到离子注入载体聚合物；所述高能离子注入处理是利用能量为10～50keV高能离子束注入元素，注入的深度为10～50nm，注入的剂量为1×1015～1×1016cm2，注入后载体聚合物的表面粗糙度为0.01～0.1μm；3对离子注入载体聚合物沉积单向结合强度金属，得到单向结合强度金属沉积的载体聚合物；4在单向结合强度金属沉积的载体聚合物的表面沉积极薄铜，得到极薄可剥离铜；所述步骤1的等离子体清洗包含顺次进行的潘宁离子源清洗、考夫曼离子源清洗、冷阴极霍尔源清洗。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 珠海凯赛奥表面技术有限公司 一种极薄可剥离铜的制备方法
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