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用于去除硬掩模的基于水蒸气的含氟等离子体 

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申请/专利权人:玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司

摘要:提供了用于对工件进行硬掩模例如,掺杂硼的非晶碳硬掩模去除工艺的装置、系统和方法。在一个示例实施中,方法包括在处理腔室中,将工件支撑在工件支撑件上。方法可包括使用等离子体源在等离子体腔室中由工艺气体生成等离子体。等离子体腔室可通过隔栅与处理腔室分开。方法可包括将工件暴露于一种或多种在等离子体中生成的自由基以对工件进行等离子体去胶工艺以从工件至少局部去除硬掩模层。方法可包括在等离子体去胶工艺期间,将工件暴露于作为钝化剂的水蒸气。

主权项:1.一种用于处理工件的方法,所述方法包括:在处理腔室中,将工件支撑在工件支撑件上,所述工件包括硬掩模层、一层或多层二氧化硅层以及一层或多层氮化硅层;使用等离子体源在等离子体腔室中由工艺气体生成等离子体,所述工艺气体包括含氟气体;将所述工件暴露于在等离子体中生成的一种或多种自由基,对所述工件进行等离子体去胶工艺,以从工件至少局部去除硬掩模层;和在等离子体去胶工艺期间,将工件暴露于作为钝化剂的水蒸气,其中所述钝化剂减少在等离子体去胶工艺期间所述二氧化硅层和氮化硅层的去除。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 玛特森技术公司 北京屹唐半导体科技股份有限公司 用于去除硬掩模的基于水蒸气的含氟等离子体

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