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申请/专利权人：苏州博洋化学股份有限公司
申请日：2024-03-07
公开（公告）日：2024-05-03
公开（公告）号：CN117854615B
主分类号：G16C20/10
分类号：G16C20/10;C23F1/18;G16C20/70;G06T7/00;G06N3/0455;G06N3/0442;G06N3/048;G06N3/0464;G06N3/08
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.03#授权;2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开
摘要：本发明蚀刻液的配方发现方法，特别是一种显示面板用铜蚀刻液配方及其研制方法，通过模型读取成分属性信息和SEM图像的信息，综合了蚀刻速率，选择性和均匀性三个方面的目标来达到高效研发显示面板铜蚀刻液配方的目的。
主权项：1.一种显示面板用铜蚀刻液配方的研制方法，其特征在于，所述配方通过端到端模型得到，所述端到端模型具体包括：输入层，子网络1，注意力模块，子网络2，时间循环层和输出层，所述端到端模型的损失函数包括蚀刻速率损失函数，选择性损失函数以及均匀性损失函数，总损失函数为：；其中，蚀刻速率损失函数：，是第i个真实的蚀刻速率值，是对应的模型预测值；选择性损失函数：，其中是第i个样本中铜的真实蚀刻速率，是模型预测的铜蚀刻速率，是模型预测的掩膜材料蚀刻速率，是模型预测的衬底材料蚀刻速率；均匀性损失函数：，是第i个样本中某一区域的真实蚀刻深度，是模型预测的该区域蚀刻深度，所述子网络1针对输入的配方属性和SEM图像分别进行特征提取，并输出等维度的特征向量，配方属性通过嵌入层，卷积层和全局池化层的处理转换为嵌入向量，同时，SEM图像经由ResNet50提取特征并通过全局平均池化层得到嵌入向量，两者的输出将整合为一个特征矩阵，所述子网络2采用多个残差式的Transformer块，进一步提取关联表示，所述配方质量百分比如下：N-甲基甲酰胺：3-7%，双氧水：3-7%，磷酸三钠：2-6%，EDTA：0.1-0.3%，丙酸：0.3-2%，添加剂：0.1-0.3%，表面活性剂：0.03-0.15%，氯化铜：1-2%，硫酸钠：2-4%，余量为纯水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州博洋化学股份有限公司 一种显示面板用铜蚀刻液配方及其研制方法
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