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申请/专利权人：普渡研究基金会
申请日：2019-06-25
公开（公告）日：2024-05-24
公开（公告）号：CN112585301B
主分类号：C25D3/12
分类号：C25D3/12;C23C14/35;C23C28/02;C25D7/00;C30B29/02;C25D5/34;C23C14/16
优先权：["20180626 US 62/690181"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.24#授权;2021.04.16#实质审查的生效;2021.03.30#公开
摘要：公开了一种高强度涂层，和产生包含纳米孪晶和堆垛层错的单晶样镍的制造方法。通过使用具有在111取向铜上溅射和电化学沉积Ni的两个步骤，制造具有纳米孪晶的单晶样镍，以减少纳米孪晶材料中晶界的腐蚀。
主权项：1.一种在基材上的高强度镍涂层，所述涂层包含含有阶梯状纳米孪晶和堆垛层错的无晶界单晶样镍。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 普渡研究基金会 高强度单晶样纳米孪晶镍涂层及其制备方法
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