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申请/专利权人：中国人民解放军火箭军工程大学
申请日：2022-05-31
公开（公告）日：2024-05-31
公开（公告）号：CN114933420B
主分类号：C03C17/25
分类号：C03C17/25;G02F1/1503;G02F1/1524
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.31#授权;2022.09.09#实质审查的生效;2022.08.23#公开
摘要：本发明公开了一种基于梯度温度的多层纳米片NiO电致变色薄膜水热制备方法，包括以下步骤：将ITO导电玻璃放置在高温反应釜的内衬中，同时向内衬中加入NiO前驱体溶液，并进行密封；将密封好的高温反应釜依次置于由低至高的梯度温度环境中，并在每种温度环境中保持一定时间，以进行多次水热反应；待水热反应完成后，对ITO导电玻璃进行热处理，以得到分层纳米片状NiO电致变色薄膜。本发明通过调整水热反应温度梯度，形成多空隙纳米片薄膜，致密的薄膜与基底粘结力相对较强，多空隙薄膜比表面积大，反应活性位点多，从而保证了薄膜在碱性电解液中进行电致变色循环时，既具备较优异的电致变色性能，还具备较好的循环稳定性。
主权项：1.一种基于梯度温度的多层纳米片NiO电致变色薄膜水热制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将ITO导电玻璃放置在高温反应釜的内衬中，同时向内衬中加入NiO前驱体溶液，并进行密封；步骤2：将密封好的高温反应釜依次置于由低至高的梯度温度环境中，并在每种温度环境中保持一定时间，以进行多次水热反应；21将密封好的高温反应釜置于油浴锅中，并在第一温度环境下保持T1时长，以进行水热反应，从而在所述ITO导电玻璃上形成第一纳米片层；22将所述第一温度升至第二温度，并继续保持T2时长，以进行水热反应，从而在所述第一纳米片层上形成第二纳米片层；其中，所述第一温度位于使NiO前驱体溶液分解或者部分分解的较低温度范围之内，以使NiO薄膜可以缓慢生长；第二温度位于使NiO前驱体溶液可以完全分解的较高温度范围之内，以使NiO薄膜可以较快的生长；且T2＞T1；23自然冷却至室温，以形成具有多个纳米片层的NiO薄膜；步骤3：待水热反应完成后，对所述ITO导电玻璃进行热处理，以得到分层纳米片状NiO电致变色薄膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国人民解放军火箭军工程大学 基于梯度温度的多层纳米片NiO电致变色薄膜水热制备方法
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