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申请/专利权人：北京量子信息科学研究院
申请日：2024-05-10
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118151276A
主分类号：G02B5/08
分类号：G02B5/08
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.07#公开
摘要：本申请提供了一种光学微腔和光学器件。所述光学微腔包括：衬底层；第一DBR反射层，设置在衬底层上，包括第一预设对数的交替生长的第一反射介质层和第二反射介质层；第二DBR反射层，设置在光学微腔顶部，包括第二预设对数的交替生长的第一反射介质层和第二反射介质层；腔中心层，设置在光学微腔的中部；第一DBR绝热层，设置在第一DBR反射层与腔中心层之间，包括第三预设对数的交替生长的第一绝热介质层和第二绝热介质层；第二DBR绝热层，设置在第二DBR反射层与腔中心层之间，包括第四预设对数的交替生长的第一绝热介质层和第二绝热介质层度。
主权项：1.一种光学微腔，其特征在于，包括：衬底层；第一DBR反射层，设置在所述衬底层上，包括第一预设对数的交替生长的第一反射介质层和第二反射介质层；第二DBR反射层，设置在所述光学微腔顶部，包括第二预设对数的交替生长的第一反射介质层和第二反射介质层；腔中心层，设置在所述光学微腔的中部；第一DBR绝热层，设置在所述第一DBR反射层与所述腔中心层之间，包括第三预设对数的交替生长的第一绝热介质层和第二绝热介质层；第二DBR绝热层，设置在所述第二DBR反射层与所述腔中心层之间，包括第四预设对数的交替生长的第一绝热介质层和第二绝热介质层；其中，所述第一反射介质层具有第一预设厚度，所述第二反射介质层具有第二预设厚度，所述第一绝热介质层具有第三预设厚度，所述第二绝热介质层具有第四预设厚度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京量子信息科学研究院 光学微腔和光学器件
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