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【发明公布】功率元件及其制作方法_尼克森微电子股份有限公司;帅群微电子股份有限公司_202211564843.5 

申请/专利权人:尼克森微电子股份有限公司;帅群微电子股份有限公司

申请日:2022-12-07

公开(公告)日:2024-06-07

公开(公告)号:CN118156135A

主分类号:H01L21/336

分类号:H01L21/336;H01L21/329;H01L29/78;H01L29/872;H01L27/06

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.07#公开

摘要:本发明公开一种功率元件,包括电基板、外延复合层、多个栅极、钝化层、导电体、漏极及场板。电基板具有第一表面、外延漂移层及多个掺杂区,多个掺杂区位于第一表面下方。外延复合层位于电基板上。栅极位于外延复合层上。钝化层覆盖栅极及外延复合层。导电体贯穿钝化层及外延复合层,且延伸至掺杂面,导电体的宽距大于间隔。漏极贯穿钝化层且延伸至外延层。场板位于钝化层上,遮盖栅极且电性连接导电体。

主权项:1.一种功率元件的制作方法,其特征在于,所述功率元件的制作方法包括:提供一电基板,其具有一第一表面及相对的一第二表面,以及一电极层位于所述第二表面上;所述电基板具有一外延漂移层,所述外延漂移层使用一第一导电掺杂物做掺杂;对所述第一表面掺杂一第二导电掺杂物,以形成多个掺杂区,相邻二所述掺杂区之间具有一间隔,所述第一导电掺杂物与所述第二导电掺杂物的电性相反;形成一外延复合层于所述电基板上,所述外延复合层包括一外延层;设置多个栅极在所述外延复合层上,每一所述栅极由一第一导电材料制成;形成一钝化层,所述钝化层覆盖多个所述栅极以及所述外延复合层;开设一第一沟渠,所述第一沟渠自所述钝化层的表面延伸至所述第一表面,所述第一沟渠具有一第一端口及一第二端口,所述第一端口位于二相邻的所述栅极之间,所述第二端口位于所述间隔的上方,所述第二端口的一宽距大于所述间隔;填充一第二导电材料于所述第一沟渠中,在所述第一端口形成一源极接点,在所述第二端口形成一萧特基位障接点;开设一第二沟渠,所述第二沟渠自所述钝化层的表面延伸至所述外延层的表面;填充一第三导电材料于所述第二沟渠中以形成一漏极;以及设置一场板于所述钝化层上,所述场板遮罩所述栅极及所述源极接点,且电性连接所述源极接点。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 尼克森微电子股份有限公司;帅群微电子股份有限公司 功率元件及其制作方法

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