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申请/专利权人：淮安捷泰新能源科技有限公司
申请日：2023-10-31
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN221094276U
主分类号：C23C16/44
分类号：C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52;H01L31/18
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.07#授权
摘要：本实用新型公开了一种改善LPCVD沉积均匀性的炉管，包括主管道、真空泵、气源、数个风淋墙及匀气罩；所述主管道为两根且两端封闭，主管道的一端对称的伸入炉管本体内侧，另一端位于炉管本体外侧；所述匀气罩连接于炉管本体内的主管道上，风淋墙连接于匀气罩的开口端，且两根主管道上的匀气罩开口相向设置；所述气源通过吹气管分别连接于主管道，真空泵通过吸气管分别连接于主管道。本实用新型将气源释放的前驱气体通过管道输送到工艺小舟一侧的风淋墙，通过风淋的方式均匀的经过衬底片表面，这样所得到的反应沉积物就可以均匀地沉积在衬底片的表面，得到均匀的膜层，工艺小舟的另一侧对称设置风淋墙，这样可以保证进、出气流的均匀性。
主权项：1.一种改善LPCVD沉积均匀性的炉管，包括炉管本体（1），舟桨（3）伸入炉管本体（1）中，数个用于承载原料的工艺小舟（2）安装于舟桨（3）上；其特征在于：还包括主管道（4）、真空泵（5）、气源（6）、数个风淋墙（7）及匀气罩（8）；所述主管道（4）为两根且两端封闭，主管道（4）的一端对称的伸入炉管本体（1）内侧，另一端位于炉管本体（1）外侧；所述匀气罩（8）连接于炉管本体（1）内的主管道（4）上，风淋墙（7）连接于匀气罩（8）的开口端，且两根主管道（4）上的匀气罩（8）开口相向设置；所述气源（6）通过吹气管（9）分别连接于主管道（4），真空泵（5）通过吸气管（10）分别连接于主管道（4）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 淮安捷泰新能源科技有限公司 一种改善LPCVD沉积均匀性的炉管
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