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申请/专利权人：南京江原安迪科正电子研究发展有限公司
申请日：2022-12-12
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118184716A
主分类号：C07H3/02
分类号：C07H3/02;C07H1/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明属于医药合成技术领域，特别是涉及三氟甘露糖中间体的合成方法。本发明以D‑甘露醇为原料，先对D‑甘露醇末端的其中一个羟基进行保护，随后保护剩余羟基，再脱除末端羟基保护基、氧化、脱除剩余羟基保护得目标产物。本发明提供的三氟甘露糖中间体的合成方法反应步骤少，操作过程简单、产率高且生产成本低，适合工业化生产。
主权项：1.三氟甘露糖中间体的合成方法，其特征在于，所述合成步骤为：S1，D-甘露醇末端一个羟基被R1基团保护，得到化合物I；S2，化合物I中的剩余羟基被R2基团保护，得到化合物II；S3，脱除化合物II中R1保护基，得到化合物III；S4，将化合物III中伯羟基氧化为醛基，得到化合物IV；S5，脱除化合物IV中R2保护基，得到目标产物V；所述合成步骤的具体合成路线如下： 其中，R1选自三甲基硅基TMS、叔丁基二苯基硅基TBDPS或苄基Bn中的任意一种；R2选自乙酰基Ac或苯甲酰基Bz。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京江原安迪科正电子研究发展有限公司 三氟甘露糖中间体的合成方法
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