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申请/专利权人：PSK有限公司
摘要：本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置可包括：制程处理部，所述制程处理部提供处理基板的处理空间；以及等离子体源，所述等离子体源从制程气体产生等离子体；所述等离子体源可包括：天线，所述天线具有卷绕复数圈的线圈；以及电力接入部，所述电力接入部向所述线圈接入高频电力；在所述线圈的一端可连接有第一接地线，在所述线圈的另一端可连接有第二接地线，所述电力接入部在所述线圈的一端与所述线圈的另一端之间的位置，可连接于所述线圈以便直接向所述线圈接入高频电力。
主权项：1.一种基板处理装置，其中，包括：制程处理部，所述制程处理部提供处理基板的处理空间；以及等离子体源，所述等离子体源从制程气体产生等离子体，所述等离子体源包括：天线，所述天线具有卷绕复数圈的线圈；以及电力接入部，所述电力接入部向所述线圈接入高频电力，在所述线圈的一端连接有第一接地线，在所述线圈的另一端连接有第二接地线，所述电力接入部在所述线圈的一端与所述线圈的另一端之间的位置连接于所述线圈，以便直接向所述线圈接入高频电力。
全文数据：
权利要求：
百度查询： PSK有限公司 基板处理装置及基板处理方法
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