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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够抑制基板的图案倒塌的技术。本公开的一技术方案为一种基板处理装置，其使用超临界状态的处理流体使附着有液体的基板干燥，其中，该基板处理装置具有：处理容器，其在内部收纳所述基板；保持部，其将所述基板以水平姿势保持在所述处理容器内的保持位置；以及流体供给部，其向所述处理容器内供给所述处理流体，所述流体供给部具有第1方向变更构件，该第1方向变更构件将自被所述保持部保持的所述基板的径向外侧供给的所述处理流体的流动向不会碰撞到所述基板的径向外端的方向变更。
主权项：1.一种基板处理装置，其使用超临界状态的处理流体使附着有液体的基板干燥，其中，该基板处理装置具有：处理容器，其在内部收纳所述基板；保持部，其将所述基板以水平姿势保持在所述处理容器内的保持位置；以及流体供给部，其向所述处理容器内供给所述处理流体，所述流体供给部具有第1方向变更构件，该第1方向变更构件将自被所述保持部保持的所述基板的径向外侧供给的所述处理流体的流动向不会碰撞到所述基板的径向外端的方向变更。
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权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法
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