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申请/专利权人：英利能源发展有限公司
申请日：2024-04-15
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118180031A
主分类号：B08B3/08
分类号：B08B3/08;B08B3/10;H01L21/67
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.07.02#实质审查的生效;2024.06.14#公开
摘要：本发明涉及晶硅电池生产领域，具体公开一种光化学硅片清洗槽体结构，包括清洗槽主槽体，所述清洗槽主槽体的一侧管路连接有光密闭箱，清洗槽主槽体的内部设有第一曝气装置，光密闭箱的内部设有第二曝气装置，第二曝气装置的一端贯穿所述光密闭箱的侧壁与气体输入装置管路连接，光密闭箱的至少一侧内壁上设有光源，光密闭箱内还设有催化剂释放结构。本发明通过光化学的方法将压缩空气或氧气选择性还原为过氧化氢，配合加入的碱液达到硅片预清洗及后清洗的目的。采用本槽体结构可有效减少过氧化氢用量，减少了危险化学品的运输和储存；同时相比使用添加剂来减少过氧化氢用量工艺，避免了添加剂的使用，可有效降低产生废水的COD值。
主权项：1.一种光化学硅片清洗槽体结构，包括清洗槽主槽体1，其特征在于，所述清洗槽主槽体1的一侧管路连接有光密闭箱2，所述清洗槽主槽体1的内部设有第一曝气装置11；所述光密闭箱2的内部设有第二曝气装置7，所述第二曝气装置7的一端贯穿所述光密闭箱2的侧壁与气体输入装置5管路连接；所述光密闭箱2的至少一侧内壁上设有光源；所述光密闭箱2内还设有催化剂释放结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 英利能源发展有限公司 一种光化学硅片清洗槽体结构
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